Apa Itu C10100 Copper
C10100 ialah kuprum elektrolitik bebas oksigen-, biasanya disingkat OFE. Ia dihasilkan melalui penapisan elektrolitik diikuti dengan peleburan dan tuangan di bawah suasana pelindung atau dalam vakum supaya pengambilan oksigen-dielakkan dan ia selesai tanpa sisa deoksidan yang digunakan dalam kuprum nada keras-biasa. Hasilnya ialah kuprum yang kandungan tembaganya sekurang-kurangnya 99.99 peratus dan kandungan oksigennya tidak melebihi 0.0005 peratus, kira-kira 5 bahagian per juta.
Tahap oksigen yang sangat rendah itu adalah titik keseluruhan gred. Oksigen-kuprum yang mengandungi seperti C11000 mengandungi serakan zarah oksida cuprous. Dalam suasana yang mengandungi hidrogen-pada suhu tinggi, hidrogen mengurangkan oksida tersebut, menghasilkan wap pada sempadan butiran dan mengoyakkan logam. C10100 tidak mengandungi oksigen untuk bertindak balas, jadi ia kebal terhadap mekanisme pereputan hidrogen ini dan ia tidak mengeluarkan wap air apabila ia digunakan di dalam sampul vakum-tinggi.
Gred ini juga dicirikan oleh kekonduksian elektrik dan haba yang sangat tinggi, biasanya dinyatakan sebagai minimum 101 peratus daripada Piawaian Tembaga Annealed Antarabangsa dalam keadaan anil, bersama-sama dengan kemuluran, kebolehbentukan dan kelakuan pematerian yang sangat baik.
Piawaian ASTM Yang Meliputi Produk C10100
Tiada spesifikasi tunggal untuk C10100. Piawaian yang digunakan bergantung pada bentuk produk yang dibeli, dan jadual di bawah menyatakan dokumen utama.
| standard ASTM | Borang produk | Skop untuk C10100 |
|---|---|---|
| ASTM B170 | Bentuk penapisan | Bentuk penapisan tembaga elektrolitik bebas oksigen-, termasuk bar dawai dan jongkong untuk pemprosesan selanjutnya. |
| ASTM F68 | Bentuk tempa untuk peranti elektron | Kuprum bebas oksigen-dalam bentuk tempa yang bertujuan untuk tiub elektron, peranti vakum dan aplikasi serupa, dengan keperluan kandungan kebersihan dan gas-. |
| ASTM B152/B152M | Lembaran, jalur, pinggan, bar bergulung | Keperluan am, temperatur, dimensi dan sifat mekanikal untuk produk C10100 bergulung rata. |
| ASTM B187/B187M | Bar bas, batang dan bentuk | Bar bas kuprum, rod, bar dan bentuk tujuan umum-, termasuk keperluan kekonduksian elektrik. |
| ASTM B49 | Rod untuk tujuan elektrik | Rod kuprum bertujuan untuk menarik ke dalam wayar untuk konduktor elektrik. |
| ASTM B75/B75M | Tiub tembaga lancar | Tiub lancar dalam kuprum tak berloil yang disenaraikan dalam standard, disertakan C10100, di mana bentuk tiub diperlukan. |
Setara Eropah dan antarabangsa mengikut logik yang sama di bawah EN 13601 untuk rod, bar dan wayar dan EN 13602 untuk wayar yang dilukis, manakala GB/T 5231 merangkumi sebutan Cina yang serupa. Mana-mana laluan yang diambil, had ketulenan, temperamen dan kekonduksian atau sifat mekanikal semuanya mesti dinyatakan pada pesanan pembelian.
Keperluan Komposisi dan Harta
ASTM B170 dan spesifikasi bergulung rata-menetapkan kimia C10100 sebagai tembaga minimum 99.99 peratus, dengan perak dikira sebagai kuprum dan oksigen maksimum 0.0005 peratus. Oleh kerana gred ditakrifkan oleh kebebasannya daripada oksigen dan daripada sisa deoksidan, unsur kekotoran dipegang pada had individu yang sangat rendah dan bukannya dibiarkan terkumpul.
| Harta benda | Keperluan |
|---|---|
| Kandungan tembaga, termasuk perak | 99.99 peratus minimum |
| kandungan oksigen | 0.0005 peratus maksimum |
| Kekonduksian elektrik, anil | 101 peratus minimum IACS |
| Sisa deoksidan | Tiada yang dibenarkan |
| Bentuk tipikal | Plat, kepingan, jalur, bar bergulung, bar bas, rod, wayar, tiub, stok penempaan |
Nilai mekanikal bergantung kepada -temperamen, jadi kekuatan tegangan, kekuatan hasil dan pemanjangan khusus datang daripada standard produk dan penetapan tempera yang berkenaan dan bukannya daripada gred sahaja.
Tempers dan Borang Yang Ada
C10100 dibekalkan dalam julat temper supaya fabrikasi boleh mengimbangi kebolehbentukan terhadap kekuatan.
Anil, ditetapkan O60 atau lembut: kemuluran maksimum, digunakan di mana pembentukan teruk, syiling atau lentur diperlukan dan kekonduksian tertinggi dikehendaki.
Dilukis keras, ditetapkan H04 dan suhu yang lebih keras: kekuatan yang lebih tinggi dan pemanjangan yang dikurangkan untuk bar bas, sesentuh dan konduktor struktur.
Seperti yang direka: sifat seperti yang dihasilkan, digunakan apabila operasi berikut akan menguasai keadaan akhir.
Oleh kerana aloi tidak mengandungi deoksidan, tepi dan permukaan kilang biasanya dilindungi semasa pemprosesan untuk mengelakkan pencemaran. Keperluan kebersihan adalah lebih ketat untuk-bentuk peranti elektron yang diliputi oleh ASTM F68 berbanding bar bas am.
Permohonan C10100
Gabungan ketulenan melampau, kekonduksian tinggi dan tiada oksigen memacu senarai aplikasi. Dalam sektor elektrik dan kuasa ia kelihatan sebagai bar bas, segmen komutator, pandu gelombang dan-konduktiviti tinggi. Dalam teknologi vakum dan elektron, ia digunakan untuk pengedap vakum, komponen klystron dan magnetron, bahagian tiub-sinar X, konduktor kabel sepaksi dan perkakasan sokongan transistor dan semikonduktor, tepat kerana ia tidak melepaskan wap air ke dalam ruang vakum.
Kegunaan lain termasuk belitan magnet untuk peralatan medan kriogenik dan tinggi-, gegelung pemanasan aruhan, komponen obor plasma, rongga pemecut di mana rintangan permukaan mesti kekal rendah dan komponen akustik atau audio yang ketiadaan kemasukan oksida memastikan laluan elektrik dan haba tetap seragam. Perkakasan aeroangkasa dan pertahanan bergantung pada gred di mana risiko kerosakan oksigen atau keluar gas tidak boleh diterima.
Panduan Kimpalan, Brazing dan Fabrikasi
C10100 mengimpal dan memateri dengan mudah, tetapi pelan fabrikasi mesti mengekalkan ketulenan yang mentakrifkan gred. Kimpalan gas lengai tungsten, kimpalan rasuk elektron dan kimpalan rintangan semuanya digunakan, dan sambungan biasanya dibuat dalam suasana lengai atau pengurangan yang tidak akan memperkenalkan semula oksigen. Pateri relau dalam suasana perlindungan adalah perkara biasa untuk pemasangan, dengan logam pengisi berasaskan perak-dipilih untuk kekonduksian.
Di mana sambungan mesti menggabungkan C10100 dengan bahan lain, perhatian harus diberikan kepada pengembangan haba yang berbeza dan kepada kesan galvanik dalam persekitaran akhir. Pemesinan adalah mudah tetapi bahannya bergetah, jadi alatan tajam, sudut garu yang besar dan kawalan cip yang berkesan adalah disyorkan. Pelepasan tekanan selepas kerja sejuk yang berat dijalankan pada suhu di bawah julat penghabluran semula supaya baran dikekalkan.
Soalan Lazim
S: Piawaian ASTM yang manakah meliputi C10100?
Yang utama ialah ASTM B170 untuk bentuk penapisan, ASTM F68 untuk bentuk tempa untuk peranti elektron, ASTM B152 untuk kepingan, plat, jalur dan bar bergulung, dan ASTM B187 untuk bar bas, rod dan bentuk, dengan ASTM B49 dan ASTM B75 meliputi bentuk rod dan tiub.
S: Mengapakah C10100 digunakan dalam-aplikasi vakum dan aeroangkasa tinggi?
Kandungan oksigennya terhad kepada 0.0005 peratus, jadi ia tidak boleh mengeluarkan wap air atau oksida lain dalam vakum yang tinggi, yang memelihara integriti persekitaran vakum. Kebebasan yang sama daripada oksigen menjadikannya kebal terhadap kerosakan hidrogen.
S: Adakah C10100 tahan terhadap kerosakan hidrogen?
ya. Tidak seperti kuprum yang mengandungi-oksigen seperti C11000, C10100 tidak mengandungi oksigen untuk bertindak balas dengan hidrogen pada suhu tinggi, jadi mekanisme penggelapan poket wap tidak boleh berlaku.
S: Apakah perangai yang tersedia untuk C10100?
Suhu biasa disepuhlindapkan O60 untuk kemuluran dan kekonduksian maksimum, H04 yang dilukis keras dan suhu yang serupa untuk kekuatan yang lebih tinggi dan sebagai-keadaan rekaan di mana pemprosesan seterusnya mengawal sifat akhir.
S: Bolehkah C10100 dikimpal dan dipateri?
ya. Ia mempunyai kebolehkimpalan dan brazeability yang sangat baik. Proses biasa ialah kimpalan gas lengai tungsten, kimpalan rasuk elektron dan pematerian relau dalam suasana perlindungan yang menghalang-pengoksidaan semula.
S: Bagaimanakah C10100 berbeza daripada C11000?
C11000 ialah kuprum pic tegar elektrolitik dengan kandungan oksigen terkawal dan kuprum minimum 99.90 peratus, manakala C10100 adalah-bebas oksigen dengan kuprum minimum 99.99 peratus dan tiada kemasukan beroksigen-.
